工業用洗浄剤 アンラスト® RMR-2
処理条件
濃度(%) | 温度(℃) | 時間 |
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原液または水にて希釈 | 常温 | - |
使用されている業界
用途 | フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤 |
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特長 | ポイント: ・ドライフィルムレジストの固着を容易に除去 ・低発泡性で清掃が簡単 ・軟質ゴムにも対応したアルカリ水溶性洗浄剤 ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで拭き取ることで容易に設備を清掃できます。低発泡性です。NBRなどの軟質ゴムにも使用が可能です。アルカリタイプの水溶性洗浄剤です。 キーワード:工業用洗浄剤, アンラスト® RMR-2, フォトレジスト現像設備, ドライフィルムレジスト, NBRゴム |
容量・荷姿 | 10kg缶~ローリー |