工業用洗浄剤 アンラスト® RMR-2
処理条件
| 濃度（%） | 温度（℃） | 時間 |
|---|---|---|
| 原液または水にて希釈 | 常温 | - |
使用されている業界
| 用途 | フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤 |
|---|---|
| 特長 | ・ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで拭き取ることで容易に設備を清掃できます。 ・低発泡性です。 ・NBRなどの軟質ゴムにも使用が可能です。 ・アルカリタイプの水溶性洗浄剤です。 |
| 容量・荷姿 | 10kg缶～ローリー |
株式会社三若純薬研究所(名古屋市)－ヒドロキシルアミン類等オリジナル製品、受託合成品、機能性配合品の特注化学品製造メーカー
製品情報
製品情報アンラスト® RMR-2
