工業用洗浄剤 アンラスト® RC-2
処理条件
| 濃度（%） | 温度（℃） | 時間 |
|---|---|---|
| 原液 | 常温 | - |
使用されている業界
| 用途 | フォトマスク洗浄剤 |
|---|---|
| 特長 | フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能です。 揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要。 ※適用法令：消防法 危険物第四類第1石油類 |
| 容量・荷姿 | 14㎏缶 |
株式会社三若純薬研究所(名古屋市)－ヒドロキシルアミン類等オリジナル製品、受託合成品、機能性配合品の特注化学品製造メーカー
製品情報
製品情報アンラスト® RC-2
