レジスト剥離液 アンラスト® R510
処理条件
| 濃度（%） | 温度（℃） | 時間 |
|---|---|---|
| 原液 | 90～110℃ | 20～90秒 |
対象物
使用されている業界
| 用途 | PVA系フォトレジストの剥離 |
|---|---|
| 特長 | ポイント： ・PVA系フォトレジスト専用剥離剤 ・リードフレーム用に特化して開発 ・剥離後の皮膜が小さく、BOD/COD負荷が低い PVA系フォトレジストの剥離剤で、特にリードフレーム用として開発。 剥離された皮膜は比較的小さく、また、BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています。 ※毒物劇物取締法：毒物 キーワード：レジスト剥離液, アンラスト® R510, ポジレジスト剥離, PVA系フォトレジスト, リードフレーム用, 高温処理, 電子工業用途, BOD負荷低減, COD負荷低減 |
| 容量・荷姿 | 20kg缶／1tコンテナ／ローリー |
