レジスト剥離液 アンラスト® R510
処理条件
| 濃度（%） | 温度（℃） | 時間 |
|---|---|---|
| 原液 | 90～110℃ | 20～90秒 |
対象物
使用されている業界
| 用途 | PVA系フォトレジストの剥離 |
|---|---|
| 特長 | PVA系フォトレジストの剥離剤で、特にリードフレーム用として開発。 剥離された皮膜は比較的小さく、また、BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています。 ※毒物劇物取締法：毒物 |
| 容量・荷姿 | 20kg缶／1tコンテナ／ローリー |
株式会社三若純薬研究所(名古屋市)－ヒドロキシルアミン類等オリジナル製品、受託合成品、機能性配合品の特注化学品製造メーカー
製品情報
製品情報アンラスト® R510
