レジスト剥離液 アンラスト® M10
処理条件
| 濃度（%） | 温度（℃） | 時間 |
|---|---|---|
| 原液処理又は純水にて希釈使用 | 常温～70℃ | 20～90秒 |
使用されている業界
| 用途 | レジストの剥離 |
|---|---|
| 特長 | ポイント： ・剥離片が小さく基材への引っ掛かり防止 ・浸漬法とスプレー法に対応 ・短時間でのレジスト剥離可能 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良が防止できます。処理方法として浸漬法、スプレー法にも対応した製品です。 毒物劇物取締法：毒物 キーワード：レジスト剥離液, アンラスト® M10, ドライフィルム剥離, ポジレジスト剥離, 常温～70℃, 電子工業用途, 浸漬法対応, スプレー法対応 |
| 容量・荷姿 | 20kg缶／ドラム／1tコンテナ／ローリー |
