フォトレジスト剥離液 アンラスト®OS15
処理条件
| 濃度（%） | 温度（℃） | 時間 |
|---|---|---|
| 3倍希釈～原液 | 50～70℃ | 2～10分 |
| 用途 | レジスト剥離液 |
|---|---|
| 特長 | ・カゼイン系、PVA系レジスト及びドライフィルムレジストの剥離に適した剥離液です。 ・キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあります。 |
| 容量・荷姿 | 20kg缶／ドラム／1tコンテナ |
株式会社三若純薬研究所(名古屋市)－ヒドロキシルアミン類等オリジナル製品、受託合成品、機能性配合品の特注化学品製造メーカー
製品情報
製品情報アンラスト®OS15
