フォトレジスト剥離液 アンラスト®M601
処理条件
| 濃度（%） | 温度（℃） | 時間 |
|---|---|---|
| 原液 | 常温～70℃ | 20～90秒 |
使用されている業界
| 用途 | レジストの剥離 |
|---|---|
| 特長 | 有機アルカリタイプでアルミ基板にも使用可能。 浸透性が高いため、細部まで剥離が可能。浸漬法、スプレー法に対応。 |
| 容量・荷姿 | 20kg缶／ドラム |
株式会社三若純薬研究所(名古屋市)－ヒドロキシルアミン類等オリジナル製品、受託合成品、機能性配合品の特注化学品製造メーカー
製品情報
製品情報アンラスト®M601
