フォトレジスト剥離液 アンラスト®M601
処理条件
| 濃度（%） | 温度（℃） | 時間 |
|---|---|---|
| 原液 | 常温～70℃ | 20～90秒 |
使用されている業界
| 用途 | レジストの剥離 |
|---|---|
| 特長 | ポイント： ・有機アルカリタイプでアルミ基板にも使用可能 ・浸透性が高く細部まで剥離可能 ・浸漬法とスプレー法に対応 有機アルカリタイプでアルミ基板にも使用可能。 浸透性が高いため、細部まで剥離が可能。浸漬法、スプレー法に対応。 キーワード：フォトレジスト剥離液, アンラスト® M601, ドライフィルム剥離, ポジレジスト剥離, 有機アルカリ, アルミ基板対応, 浸透性高い, 常温～70℃, 電子工業用途, 浸漬法対応, スプレー法対応 |
| 容量・荷姿 | 20kg缶／ドラム |
