株式会社三若純薬研究所(名古屋市)-ヒドロキシルアミン類等オリジナル製品、受託合成品、機能性配合品の特注化学品製造メーカー

株式会社 三若純薬研究所

  • 情報セキュリティ基本方針
  • 採用サイトへ

製品情報

ホーム 製品情報アンラスト® TP160

フォトレジスト剥離液 アンラスト® TP160

処理条件

濃度(%) 温度(℃) 時間
数~10% 50~110℃ -

使用されている業界

用途 レジスト剥離液に添加するタイプの剥離剤
特長 ・苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に添加することにより、レジストの剥離が容易になります。
・鉄系基材に対し、防・除錆効果があります。
・生分解性がよく、環境負荷の少ない製品です。
※腐敗防止の為にpHをアルカリ性に調製していますので、取り扱いには十分注意してください。
容量・荷姿 20kg缶/200kgドラム