フォトレジスト剥離液 アンラスト® ST7-21
処理条件
濃度(%) | 温度(℃) | 時間 |
---|---|---|
原液~水で希釈 | 常温~70℃ | 20~90秒 |
対象物
使用されている業界
用途 | 液晶用カラーフィルターBM工程ポジレジストの剥離 |
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特長 | 低発泡タイプのポジ型レジスト用剥離剤です。 苛性ソーダーベースの剥離剤として優れた特性を有しており、浸漬法、スプレー法にも対応した製品です。 PRTR法には該当しません。 |
容量・荷姿 | 20kg缶/ドラム/1tコンテナ/ローリー |
株式会社三若純薬研究所(名古屋市)-ヒドロキシルアミン類等オリジナル製品、受託合成品、機能性配合品の特注化学品製造メーカー
製品情報アンラスト® ST7-21
濃度(%) | 温度(℃) | 時間 |
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原液~水で希釈 | 常温~70℃ | 20~90秒 |
用途 | 液晶用カラーフィルターBM工程ポジレジストの剥離 |
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特長 | 低発泡タイプのポジ型レジスト用剥離剤です。 苛性ソーダーベースの剥離剤として優れた特性を有しており、浸漬法、スプレー法にも対応した製品です。 PRTR法には該当しません。 |
容量・荷姿 | 20kg缶/ドラム/1tコンテナ/ローリー |