株式会社三若純薬研究所(名古屋市)-ヒドロキシルアミン類等オリジナル製品、受託合成品、機能性配合品の特注化学品製造メーカー

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製品情報

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フォトレジスト剥離液 アンラスト® ST7-21

処理条件

濃度(%) 温度(℃) 時間
原液~水で希釈 常温~70℃ 20~90秒

対象物

使用されている業界

用途 液晶用カラーフィルターBM工程ポジレジストの剥離
特長 低発泡タイプのポジ型レジスト用剥離剤です。
苛性ソーダーベースの剥離剤として優れた特性を有しており、浸漬法、スプレー法にも対応した製品です。
PRTR法には該当しません。
容量・荷姿 20kg缶/ドラム/1tコンテナ/ローリー