フォトレジスト剥離液 アンラスト® RW-C
処理条件
濃度(%) | 温度(℃) | 時間 |
---|---|---|
原液処理 | 50~70℃ | 5分前後 |
使用されている業界
用途 | ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離 |
---|---|
特長 | 苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品です。樹脂に対して強力な剥離、洗浄性があります。浸漬法、スプレー法に対応します。 毒物劇物取締法:劇物 PRTR法:該当 |
容量・荷姿 | 20kg缶/ドラム/1tコンテナ/ローリー |
株式会社三若純薬研究所(名古屋市)-ヒドロキシルアミン類等オリジナル製品、受託合成品、機能性配合品の特注化学品製造メーカー
製品情報アンラスト® RW-C
濃度(%) | 温度(℃) | 時間 |
---|---|---|
原液処理 | 50~70℃ | 5分前後 |
用途 | ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離 |
---|---|
特長 | 苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品です。樹脂に対して強力な剥離、洗浄性があります。浸漬法、スプレー法に対応します。 毒物劇物取締法:劇物 PRTR法:該当 |
容量・荷姿 | 20kg缶/ドラム/1tコンテナ/ローリー |