フォトレジスト剥離液 アンラスト® RW-C
処理条件
| 濃度（%） | 温度（℃） | 時間 |
|---|---|---|
| 原液処理 | 50～70℃ | 5分前後 |
使用されている業界
| 用途 | ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離 |
|---|---|
| 特長 | ポイント： ・ガラス基板の再生・洗浄に最適 ・樹脂に対して強力な剥離・洗浄性 ・浸漬法、スプレー法に対応 苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品です。樹脂に対して強力な剥離、洗浄性があります。浸漬法、スプレー法に対応します。 毒物劇物取締法：劇物 PRTR法：該当 キーワード：フォトレジスト剥離液, アンラスト® RW-C, ガラス基板再生, 樹脂レジスト剥離, ドライフィルム剥離, ポジレジスト剥離, 苛性アルカリ, 高沸点溶剤, 電子工業用途 |
| 容量・荷姿 | 20kg缶／ドラム／1tコンテナ／ローリー |
