フォトレジスト剥離液 アンラスト® R100
処理条件
| 濃度（%） | 温度（℃） | 時間 |
|---|---|---|
| 数～20% | - | - |
対象物
使用されている業界
| 用途 | カゼイン、PVA系フォトレジスト向けの剥離を促進 |
|---|---|
| 特長 | 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に添加することにより、剥離が容易になります。 |
| 容量・荷姿 | 20kg缶／200kgドラム |
株式会社三若純薬研究所(名古屋市)－ヒドロキシルアミン類等オリジナル製品、受託合成品、機能性配合品の特注化学品製造メーカー
製品情報
製品情報アンラスト® R100
