フォトレジスト剥離液 アンラスト® OS15
処理条件
| 濃度（%） | 温度（℃） | 時間 |
|---|---|---|
| 30%～原液 | 50～70℃ | 2～10分 |
使用されている業界
| 用途 | カゼイン系及びPVA系レジストやドライフィルムレジストの剥離 |
|---|---|
| 特長 | キレート剤を含有しており、鉄板表面除錆作用があります。 ※毒物劇物取締法：劇物 |
| 容量・荷姿 | 20kg缶／ドラム／1tコンテナ／ローリー |
株式会社三若純薬研究所(名古屋市)－ヒドロキシルアミン類等オリジナル製品、受託合成品、機能性配合品の特注化学品製造メーカー
製品情報
製品情報アンラスト® OS15
